Etnews сообщил, что Samsung Electronics и SK Hynix заказали устройство для воздействия ультрафиолетом (EUV) High-NA.
Dec 09, 2022| Etnews сообщил, что Samsung Electronics и SK Hynix заказали устройство для воздействия ультрафиолетом (EUV) High-NA для полупроводникового оборудования следующего поколения у литографического гиганта ASML. Вслед за TSMC и Intel корейские производители полупроводников также готовятся представить оборудование, работающее по 2-нм техпроцессу. Ожидается, что конкуренция за самые передовые процессы усилится.
IT House понимает, что оборудование EUV High-NA стоит дороже, чем оборудование EUV, используемое в настоящее время, но оно позволяет единовременно реализовать сверхтонкий процесс (единичное нанесение рисунка), что может значительно повысить производительность. Что касается Samsung Electronics, то необходимо обеспечить устройства High-NA EUV для массового производства по 2-нм техпроцессу до начала массового производства по 3-нм техпроцессу. Стоимость существующего оборудования EUV оценивается от 200 миллиардов вон (около 1,008 миллиарда юаней) до 300 миллиардов вон (около 1,512 миллиарда юаней), а стоимость оборудования EUV High-NA оценивается в 500 миллиардов вон (около 2,52 миллиарда юаней).
